一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理

练习题库2022-08-02 66

问题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A.不做处理B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.基托组织面缓冲D.取下腭杆，用自凝树脂修补缺口E.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

选项 A.不做处理
B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
C.基托组织面缓冲
D.取下腭杆，用自凝树脂修补缺口
E.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

答案 E

解析

转载请注明原文地址:https://www.tihaiku.com/yiliaoweisheng/558798.html

口腔执业医师

相关试题推荐

随机试题

最新回复(0)