一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方

免费题库2022-08-02 54

问题一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A.腭杆组织面缓冲B.取下腭杆C.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆D.不做处理，让患者把义齿戴走E.腭杆组织面加自凝树脂重衬

选项 A.腭杆组织面缓冲
B.取下腭杆
C.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
D.不做处理，让患者把义齿戴走
E.腭杆组织面加自凝树脂重衬

答案 C

解析

转载请注明原文地址:https://www.tihaiku.com/yiliaoweisheng/2176363.html

口腔医学353

相关试题推荐

随机试题

最新回复(0)